Deutschland·Auftraggeber: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Offen für Angebote·25 Okt. 2026

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Veröffentlicht

25.10.2026

Offen für Angebote

25.10.2026

Lieferung von flüssigem Helium (2025)

Offen für Angebote·Oct 25

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Lieferung von flüssigem Stickstoff

Offen für Angebote·Oct 25

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Lieferung von flüssigem Stickstoff (2025)

Offen für Angebote·Oct 25

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Plasma Ashing System

Offen für Angebote·Oct 25

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Atomic Layer Deposition (ALD) System

Offen für Angebote·Oct 25

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Atomic Force Microscope (AFM)

Offen für Angebote·Oct 25

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