Germany·Buyer: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Open for bids·25 Oct 2026

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Published

25.10.2026

Open for bids

25.10.2026

Lieferung von flüssigem Helium

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Lieferung von flüssigem Stickstoff (2025)

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Lieferung von flüssigem Helium (2025)

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Atomic Layer Deposition (ALD) System

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Plasma Ashing System

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Atomic Force Microscope (AFM)

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