Niemcy·Zamawiający: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Przyjmowanie ofert·25 paź 2026

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Opublikowano

25.10.2026

Przyjmowanie ofert

25.10.2026

Lieferung von flüssigem Helium (2025)

Przyjmowanie ofert·Oct 25

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Lieferung von flüssigem Stickstoff

Przyjmowanie ofert·Oct 25

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Plasma Ashing System

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