Germania·Stazione appaltante: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Aperta alle offerte·25 ott 2026

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Pubblicazione

25.10.2026

Aperta alle offerte

25.10.2026

Lieferung von flüssigem Helium (2025)

Aperta alle offerte·Oct 25

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Lieferung von flüssigem Stickstoff

Aperta alle offerte·Oct 25

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Lieferung von flüssigem Stickstoff (2025)

Aperta alle offerte·Oct 25

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Plasma Ashing System

Aperta alle offerte·Oct 25

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Atomic Layer Deposition (ALD) System

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Atomic Force Microscope (AFM)

Aperta alle offerte·Oct 25

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