Ujerumani·Mnunuzi: Friedrich-Schiller-Universität JenaChemisch-mechanische Poliermaschine
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.
Imechapishwa
08.09.2026
Wazi kwa zabuni
08.09.2026
Mwisho wa muda
13.10.2026
Verlängerung I-Doit Subscription
Hochsensitives Spektrometer
Spektral aufgelöster Zeilendetektor im Infrarot-Bereich von 1050-2200 nm
Einzelphotonendetektor für sichtbares und nahinfrarotes Licht, 4 Stück
Multifunktionales FPGA-basiertes Steuerungs-, Mess und Signalverarbeitungsinstrument
Ultraschall-Metallschweißgerät
Lieferung von TOC/TN
Vollautomatisches Gewebefärbesystem für IHC/ISH inkl. Anbindung an LIS und Service- und Wartungsvertrag sowie einer Rahmenvereinbarung für Verbrauchsmaterialien
Laborausstattung TRC II - CITABLE
Beschaffung eines Beschichters zur Fertigung von Batterieelektroden
ALD-Anlage
Hochvakuum-Beschichtungssystem
Entsorgung von Textilien
RV Digital Signature Monitore
BFI Freianlagenplanung für die Elektrifizierung der Abstellfläche und den Neubau einer Einsatzleitung auf dem Busbetriebshof Indira-Gandhi-Straße
VE 1 - Kabeltiefbau und Kabelverlegung LST und TK inkl Anpassungsarbeiten Strecke 5510/5555/5710
Baumeisterarbeiten u. Rigole / Grundleitungen
Hochauflösendes Flüssigchromatographie-Massenspektrometer für die Protein- und Proteomanalytik
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