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Otnox
DEAlemanha·Comprador: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Aberto para propostas·25 out 2026

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Publicado

25.10.2026

Aberto para propostas

25.10.2026

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