Für die Umsetzung aktueller Forschungs- und Entwicklungsarbeiten wird eine ALE-Trockenätzanlage zur Bearbeitung von III-V-Halbleitern benötigt. Die Anlage soll hochpräzise Ätzprozesse im Nanometerbereich ermöglichen.
Gepubliceerd
13.09.2026
Open voor inschrijvingen
13.09.2026
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