Njemačka·Naručitelj: Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.ALD-Anlage
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Objavljeno
22.09.2026
Dodijeljeno
22.09.2026
Lieferung von TOC/TN
Vollautomatisches Gewebefärbesystem für IHC/ISH inkl. Anbindung an LIS und Service- und Wartungsvertrag sowie einer Rahmenvereinbarung für Verbrauchsmaterialien
Laborausstattung TRC II - CITABLE
Beschaffung eines Beschichters zur Fertigung von Batterieelektroden
Hochvakuum-Beschichtungssystem
Laboratory Equipment Malawi
Entsorgung von Textilien
RV Digital Signature Monitore
BFI Freianlagenplanung für die Elektrifizierung der Abstellfläche und den Neubau einer Einsatzleitung auf dem Busbetriebshof Indira-Gandhi-Straße
VE 1 - Kabeltiefbau und Kabelverlegung LST und TK inkl Anpassungsarbeiten Strecke 5510/5555/5710
Baumeisterarbeiten u. Rigole / Grundleitungen
Hochauflösendes Flüssigchromatographie-Massenspektrometer für die Protein- und Proteomanalytik
© 2026 SIA «Vietne». Sva prava pridržana.