Saksa·Ostaja: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Avoinna tarjouksille·25 loka 2026

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Julkaistu

25.10.2026

Avoinna tarjouksille

25.10.2026

Lieferung von flüssigem Helium (2025)

Avoinna tarjouksille·Oct 25

—

Lieferung von flüssigem Stickstoff

Avoinna tarjouksille·Oct 25

—

Lieferung von flüssigem Stickstoff (2025)

Avoinna tarjouksille·Oct 25

—

Plasma Ashing System

Avoinna tarjouksille·Oct 25

—

Atomic Layer Deposition (ALD) System

Avoinna tarjouksille·Oct 25

—

Atomic Force Microscope (AFM)

Avoinna tarjouksille·Oct 25

—

Löydä hankinnat, joihin kannattaa osallistua.

Luo tili, jotta voit tutkia tätä hankintaa ja löytää vastaavia mahdollisuuksia.

Hankinta-asiakirjatTarkastele saatavilla olevia tiedostoja yhdessä työtilassa.
Vaatimukset ja riskitTilaa asiakirja-analyysi, jossa on viitteet lähteisiin.
HankintavalikoimasiJatka valitsemillasi markkinoilla ja toimialoilla.