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Otnox
NLPaíses Bajos·Comprador: Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek TNO

Metrology SEM+FIB system

Cerrado·28 jul 2026

The main purpose of this FIB/SEM equipment is to perform material milling (cutting), 3D characterization, and cross section analysis of epitaxially grown InP, InGaAs, InAlGaAs and InGaAsP layers on InP substrates. The structures may also contain polymer-based planarization layers, SiOx or SiNx dielectric layers and TiPtAu or NiGeAu metal layers.

Publicado

28.07.2026

Abierto para ofertas

28.07.2026

Condiciones actualizadas

28.07.2026

Fecha límite

07.09.2026

Otnox

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