Alemania·Comprador: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften

Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Abierto para ofertas·25 oct 2026

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Publicado

25.10.2026

Abierto para ofertas

25.10.2026

Lieferung von flüssigem Helium

Abierto para ofertas·Oct 25

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Lieferung von flüssigem Stickstoff (2025)

Abierto para ofertas·Oct 25

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Lieferung von flüssigem Helium (2025)

Abierto para ofertas·Oct 25

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Atomic Layer Deposition (ALD) System

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Plasma Ashing System

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Atomic Force Microscope (AFM)

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